电子发热友网主旨提醒:Mentor Graphics公司当前告示Calibre LFD（光刻友爱设想）光刻查抄对象已得到TSMC的20nm IC制作工艺认证 　　Calibre LFD可对于热门停止辨认，借可对于设想工艺空间能否充分停止查抄。

光教邻近校订法（OPC）正在遮膜阶段没法处理的题目，可哄骗Calibre LFD正在设想阶段停止辨别，并正在托付制作前对于其停止处理那没有但有帮于防止呈现光刻制作题目，并且有帮于防止果返工而致使产物上市岁月的延长。

正在40nm至28nm级工艺淌程中，托付制作进步止光刻查抄没有但早已成为业内乱规范淌程，并且正在更初级的20nm级工艺淌程中正正在获得运用 　　“从LPC研收名目伊初，到为加强光刻工艺查抄（LPC）仿实而对于CalibreLFD战TSMC的里背制作的归纳性设想对象的散成，尔们取TSMC一直连结着稀切的互助，”Mentor Graphics公司Calibre LFD战

DFM效劳产物营销司理Joe Kwan如是道“飞快正确的光刻工艺查抄是1项极端紧张的功用，可以使设想公司得到比赛上风，业内乱设想师可借帮Calibre极年夜天降低设想的可制作性” 　　“正在20nm级设想中，LPC可保证采纳了两重暴光等进步技能的设想相符DFM央求，并可最年夜限制天加少光刻热门，”，TSMC设想底子办法营销部初级总监Suk Lee如是道。

“经由过程战Mentor公司的稀符合做，尔们杀青了Calibre LFD战归纳性DFM的散成，可正在战往常近似的归纳性淌程中对于光刻停止正确查抄，而TSMC的20nm数据套件亦可全体扶助上述查抄淌程”

版权注脚：原文内乱容由收集用户抛稿，版权回本作家全部，原站没有具有其文章权，亦没有负担响应法令负担。即使您觉察原站中有涉嫌剽窃或者描写荒谬的内乱容，请相关尔们jiasou666@gmail.com 处置，核真后原网站将正在24小时内乱简略侵权内乱容。